1.1 机械抛光
机械抛光是一种抛光方法,在抛光后将材料表面的突起切削去除,以获得光滑的表面。一般采用油石条、羊毛轮、砂纸等,以人工操作为主。对于旋转面等特殊零件,可采用转台等辅助工具。对于质量要求较高的表面,可以采用超精密抛光。
超精密抛光是利用特殊设计的磨具,在含有磨料的抛光液中紧紧压在工件表面上,并进行高速旋转运动。利用该技术,可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。
1.2 化学抛光
化学抛光是使材料表面在化学介质中优先溶解突出的表面凹部,从而获得光滑表面的过程。这种方法的主要优点是不需要复杂的设备,可以抛光形状复杂的工件。可同时抛光多个工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光获得的表面粗糙度一般在10μm左右。
1.3 电解抛光
电解抛光的基本原理与化学抛光相同,选择性地溶解材料表面的细小突起,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,取得更好的效果。电化学抛光过程分为两步:
(1)宏观整平溶解产物扩散到电解液中,导致材料表面几何粗糙度降低,Ra>1μM。
(2)低光平阳极偏光,表面亮度增加,Ra<1μM。
1.4 超声波抛光
将工件放入磨料悬浮液中,并一起置于超声波场中。在超声波的振荡作用下,磨料在工件表面被研磨、抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但夹具制作和安装较困难。
超声波处理可以与化学或电化学方法相结合。在溶液腐蚀和电解的基础上,施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面的溶解产物脱离,使表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化效应还可以抑制腐蚀过程,有利于表面光泽
1.5 流体抛光
流体抛光是通过用高速流动的液体及其携带的磨粒冲洗工件表面来实现的。常见的方法有磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力磨削等。流体动力磨削是通过液压驱动,使携带磨粒的液体介质在工件表面高速来回流动。介质主要由在较低压力下具有良好流动性的特殊化合物(聚合物类物质)并与磨料混合制成,可使用碳化硅粉。
1.6 磁力研磨和抛光
磁力磨料抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷对工件进行磨削加工的过程。该方法加工效率高、质量好、加工条件容易控制、劳动条件好。通过使用合适的磨料,表面粗糙度可达Ra0.1μm。